[发明专利]平面电弧金属靶材的初始化方法有效
| 申请号： | 201110159033.7 | 申请日： | 2011-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN102226268A | 公开（公告）日： | 2011-10-26 |
| 发明（设计）人： | 乐务时;钱涛 | 申请（专利权）人： | 星弧涂层科技（苏州工业园区）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人： | 陆明耀;陈忠辉 |
| 地址： | 215022 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明揭示了一种全新的金属靶材初始化方法，采用弧斑在金属靶材表面形成一边界整齐的膜离子跑道。通过初始化处理后，靶材表面形成一条跑道，它能够有效束缚弧斑的运动，并使成膜离子沿着一定的方向在空间一定区域朝着工件运动；较深的跑道沟壑能够有效吸附金属液滴，从而达到细化成膜离子，减少膜层表面坑点，降低膜层表面粗糙度；更重要的是，通过初始化处理后，跑道底部磁强加强，弧斑得到有力的约束，电离的更加充分，金属离子具有更大的能量，能够和反应气体充分反应，形成的膜层更加致密，且与基板结合更加牢固，从而大幅提高膜层的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 电弧 金属 初始化 方法 | ||
【主权项】：
一种平面电弧金属靶材的初始化方法，其特征在于：包括以下步骤，步骤一：将镀膜真空室抽至1.0×10‑3Pa以上的真空度；步骤二：向镀膜真空室内通入工艺气体，使真空腔内的真空度达到5.0‑0.1Pa，步骤三：在基板上施加偏压为50‑300V的偏压电流，占空比为5%‑90%；步骤四：将金属靶材接通电源，设置弧电流为60‑200A；步骤五：启动引弧装置使金属靶材表面产生弧斑；步骤六：弧斑在设于金属靶材后方的磁场的作用下，在金属靶材表面形成一边界整齐的膜离子跑道及跑道沟壑；步骤七：当基板上的偏压电流稳定并达到一特定范围的时候，结束初始化处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于星弧涂层科技（苏州工业园区）有限公司，未经星弧涂层科技（苏州工业园区）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110159033.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
