[发明专利]一种电阻抗断层成像电极放置装置无效
| 申请号： | 201110153525.5 | 申请日： | 2011-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN102217933A | 公开（公告）日： | 2011-10-19 |
| 发明（设计）人： | 费舟;董秀珍;付峰;李兵;陈超爽;刘文博 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军第四军医大学 |
| 主分类号： | A61B5/053 | 分类号： | A61B5/053 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 陆万寿 |
| 地址： | 710032 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电阻抗断层成像电极放置装置，包括绝缘板、电极、电极探头和弹性下拉系统；所述绝缘板上设置有若干个电极，在电极末端设置有探头；所述绝缘板外侧设置有弹性下拉系统。本发明的电极装置可很好地接触于检测物体表面，导电性能良好，由于形状结构稳定，可重复性极佳。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阻抗 断层 成像 电极 放置 装置 | ||
【主权项】：
一种电阻抗断层成像电极放置装置，其特征在于：包括绝缘板、电极、电极探头和弹性下拉系统；所述绝缘板上设置有若干个电极，在电极末端设置有探头；所述绝缘板外侧设置有弹性下拉系统。
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