[发明专利]图案化的无机层、基于辐射的图案化组合物和相应方法有效
| 申请号: | 201110151789.7 | 申请日: | 2011-05-30 |
| 公开(公告)号: | CN102269929A | 公开(公告)日: | 2011-12-07 |
| 发明(设计)人: | 贾森·K·斯托尔斯;艾伦·J·特莱茨基;道格拉斯·A·凯斯勒;安德鲁·格伦维尔 | 申请(专利权)人: | 因普利亚公司 |
| 主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F1/14;G03F1/08 |
| 代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 孟锐 |
| 地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | 本发明涉及图案化的无机层、基于辐射的图案化组合物和相应方法。稳定化的前驱物溶液可用来形成辐射无机涂层材料。所述前驱物溶液一般包含金属低氧化物阳离子、基于过氧化物的配位基和多原子阴离子。这些前驱物溶液可经设计以使所述前驱物溶液达到高稳定性水平。所得涂层材料可经设计以用诸如紫外线、x射线辐射或电子束辐射等所选辐射图案化。所述经辐射图案化的涂层材料可视材料特性而具有高对比度,以致能成功显影潜像,从而形成具有极低线宽粗糙度的线和具有极小间距的相邻结构。 | ||
| 搜索关键词: | 图案 无机 基于 辐射 组合 相应 方法 | ||
【主权项】:
一种水性无机图案化前驱物溶液,其包含水、金属低氧化物阳离子、多原子无机阴离子与包含过氧化物基团的辐射敏感性配位基的混合物,其中所述前驱物溶液中配位基与金属低氧化物阳离子的摩尔浓度比为至少约2,且其中在不进行额外混合的情况下,所述前驱物溶液就相分离而言稳定至少约2小时。
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