[发明专利]一种新型IBC结构N型硅异质结电池及制备方法无效
申请号: | 201110151204.1 | 申请日: | 2011-06-07 |
公开(公告)号: | CN102201481A | 公开(公告)日: | 2011-09-28 |
发明(设计)人: | 高艳涛;邢国强;张斌;陶龙忠;沙泉;李晓强 | 申请(专利权)人: | 合肥海润光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/072 | 分类号: | H01L31/072;H01L31/18 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 230001 安徽省合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种新型IBC结构N型硅异质结电池,其中N型硅衬底前表面覆有三氧化二铝薄膜,三氧化二铝层薄膜上覆有氮化硅薄膜;所述N型硅衬底的背表面沉积本征非晶硅和P型非晶硅,本征非晶硅和P型非晶硅上设有凹槽,凹槽底部为N型重掺杂区,凹槽内设有电极负极;P型非晶硅背表面设有电池的正极。本发明还公开了上述电池的制备方法。本发明中利用激光掺杂和PECVD沉积非晶硅,使得整个过程没有高温扩散过程,最大限度的保留了硅衬底的少数载流子寿命,降低了高温过程对N型硅衬底的损伤;同时IBC结构的电池使得电池片充分利用太阳光谱,最大限度的提高电池的短路电流密度;没有P型重掺区,使得太阳电池的稳定性提高。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 ibc 结构 型硅异质结 电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种新型IBC 结构N型硅异质结电池,其特征在于:它包括: N型硅衬底(1)、氮化硅薄膜(2)、三氧化二铝薄膜(3)、本征非晶硅(4)、P型非晶硅(5)、N型重掺杂区(6)、电池的正极(7)、电池的负极(8);所述N型硅衬底(1)前表面覆有三氧化二铝薄膜(3),三氧化二铝层薄膜(3)上覆有氮化硅薄膜(2);所述N型硅衬底(1)的背表面沉积本征非晶硅(4)和P型非晶硅(5),本征非晶硅(4)和P型非晶硅(5)上设有凹槽,凹槽底部为N型重掺杂区(6),凹槽内设有电极负极(8);P型非晶硅(5)背表面设有电池的正极(7)。
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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