[发明专利]聚合物、化学放大正性抗蚀剂组合物和图案形成方法

摘要

将一种包括在侧链上具有氟化羧酸鎓盐结构的重复单元的聚合物用于配制化学放大正性抗蚀剂组合物。当该组合物通过平版印刷处理形成正性图案时，酸在抗蚀剂膜中的扩散均匀并且缓慢，以及该图案的LER得到改善。

主权项

1.一种包括具有通式(1)的氟化羧酸盐重复单元的聚合物：其中R¹为由下式任一种表示的衍生自能够提供可聚合单体的聚合活性的基础骨架的结构：其中在结构中从氧原子伸出的价键表示与W¹的键，R²为氟或氟烷基，W¹为二价有机基，和Q⁺为通式(a)或(b)的硫阳离子或通式(c)的碘阳离子：其中R³、R⁴和R⁵各自独立地为取代或未取代的直链或支化C₁-C₁₀烷基、烯基或氧代烷基，或取代或未取代的C₆-C₁₈芳基、芳烷基或芳氧烷基，或R³、R⁴和R⁵的至少两个可以与硫原子一起键合成环，其中R⁶为取代或未取代的直链、支化或环状C₁-C₂₀烷基或烯基，或取代或未取代的C₆-C₁₄芳基，m为1至5的整数，n为0或1，R⁶可以具有在其上取代的羰基、羟基、酯结构、内酯结构、氨基、酰胺基或醚键合的氧原子，其中R⁶为取代或未取代的直链、支化或环状C₁-C₂₀烷基或烯基或取代或未取代的C₆-C₁₄芳基，m为1至5的整数，n为0或1，R⁶可以具有在其上取代的羰基、羟基、酯结构、内酯结构、氨基、酰胺基或醚键合的氧原子。