[发明专利]光刻对准系统参考板的调整机构及调整方法有效
| 申请号： | 201110129460.0 | 申请日： | 2011-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN102789144A | 公开（公告）日： | 2012-11-21 |
| 发明（设计）人： | 袁永刚 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明一种光刻对准系统参考板的调整机构，包括：固定结构，用于参考板的位置固定；以及调节机构，用于对参考板的X、Y和Rz自由度进行调节；所述调节机构与所述参考板连接，当完成调节后可拆卸。在满足调节参考板的X、Y和Rz自由度，探测光纤的X、Y和Rz自由度的同时，达到参考板和探测光纤之间的较高装配精度的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 对准 系统 参考 调整 机构 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻对准系统参考板的调整机构，其特征在于包括：固定结构，用于参考板的位置固定；以及调节机构，用于对参考板的X、Y和Rz自由度进行调节；所述调节机构与所述参考板连接，当完成调节后可拆卸。
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