[发明专利]一种分压控制大面积磁控溅射镀膜系统及其方法无效
| 申请号： | 201110125205.9 | 申请日： | 2011-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN102220563A | 公开（公告）日： | 2011-10-19 |
| 发明（设计）人： | 于洪文;马兵;张艳丽;安利娟;李春江;何晓倩;李宝山;陈志鹏 | 申请（专利权）人： | 山东桑乐光热设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 271000 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种分压控制大面积磁控溅射镀膜系统及其方法，它通过分压感应器和闭合回路控制系统监控反应气体分压，在其发生变化时通过调节气流量使其回到设定值(图3)。这种方法能够有效消除气流控制中的“失稳”问题，使得反应溅射过程能够在设定的化学配比下连续稳定地进行，有效解决大面积镀膜产品的厚度和性能的均匀性问题。它包括溅射腔室，在溅射腔室内设有多个磁控靶，在磁控靶相应位置设有多个气体多歧管，每个气体多歧管对应一个多歧管区域，在该区域设有分压监控装置，各气体多歧管与气流计控制器连接；所述分压监控装置分别与相应的平衡设定点通道连接，平衡设定点通道与气流计控制器连接，组成闭环控制系统。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 控制 大面积 磁控溅射 镀膜 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种分压控制大面积磁控溅射镀膜系统，其特征是，它包括溅射腔室，在溅射腔室内设有多个磁控靶，在磁控靶相应位置设有多个气体多歧管，每个气体多歧管对应一个多歧管区域，在该区域设有分压监控装置，各气体多歧管与气流计控制器连接；所述分压监控装置分别与相应的平衡设定点通道连接，平衡设定点通道与气流计控制器连接，组成闭环控制系统。
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