[发明专利]用于EB或EUV平版印刷的化学放大正性抗蚀剂组合物和图案化方法有效
| 申请号： | 201110121500.7 | 申请日： | 2011-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN102243439A | 公开（公告）日： | 2011-11-16 |
| 发明（设计）人： | 增永惠一;渡边聪;田中启顺;土门大将 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种用于EB或EUV平版印刷的化学放大正性抗蚀剂组合物，其包括(A)聚合物或聚合物共混物，其中聚合物或聚合物共混物的薄膜不可溶于碱性显影剂，但是在酸的作用下变为可溶于其中，(B)酸产生剂，(C)碱性化合物，和(D)溶剂。碱性化合物(C)为包括带有侧链的重复单元的聚合物，并且构成作为组分(A)的一种聚合物或多种聚合物的一部分或全部，所述侧链具有仲胺或叔胺结构作为碱性活性位点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 eb euv 平版印刷 化学 放大 正性抗蚀剂 组合 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种用于EB或EUV平版印刷的化学放大正性抗蚀剂组合物，包括(A)聚合物或聚合物共混物，至少一种聚合物具有被酸去保护的保护基，其使得聚合物或聚合物共混物的薄膜不可溶于碱性显影剂，但是在酸的作用下变为可溶于其中，(B)能够产生酸的酸产生剂，(C)用于抑制酸作用的碱性化合物，和(D)溶剂，其中作为组分(C)的碱性化合物为包括带有侧链的重复单元的聚合物，并且构成作为组分(A)的至少一种聚合物，所述侧链具有仲胺或叔胺结构作为碱性活性位点，和该组合物可以任选进一步包括以每摩尔作为组分(B)的酸产生剂计，用量为至多1/20摩尔的分子量为至多1,000的化合物作为不同于聚合物形式的碱性化合物的组分(C)。
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