[发明专利]一种激光诱导等离子体注入基材的方法及装置有效
| 申请号： | 201110120841.2 | 申请日： | 2011-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN102208321A | 公开（公告）日： | 2011-10-05 |
| 发明（设计）人： | 任旭东;李应红;皇甫喁卓;汪诚;阮亮;何卫峰;周鑫;楚维;张永康;戴峰泽;张田 | 申请（专利权）人： | 江苏大学;中国人民解放军空军工程大学 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;C23C14/48 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人： | 汪旭东 |
| 地址： | 212013 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种激光诱导等离子体注入工件的方法和装置，涉及离子注入装置和离子注入材料加工技术领域。激光器激发的高能短脉冲强激光冲击到金属箔上，金属箔吸收高能短脉冲激光能量瞬间气化、电离，产生高温等离子体，等离子体由金属离子、电子和不带电的原子构成，等离子吸收后续激光能量膨胀爆炸，等离子体爆炸过程中，电子与接负电位的工件之间的相斥力使电子背离工件运动，正电荷板中和一部分电子，正价金属离子与负电位工件之间的相吸力使金属离子朝着工件运动，在等离子体膨胀爆炸形成的冲击波作用和电场的吸引作用的叠加下，以极大的速度打在工件表面，完成金属离子注入。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 诱导 等离子体 注入 基材 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种激光诱导等离子体注入基材的方法，其特征在于，激光烧蚀金属箔诱导的等离子体作为离子源，通过电场的分离，其中金属离子在等离子体爆炸产生的冲击波和电场力的加速作用下，以极大的速度注入到加热工况下的基材表层。
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