[发明专利]一种用于计算机硬盘基片抛光的多孔纳米氧化铝抛光液无效

专利信息
申请号: 201110114788.5 申请日: 2011-05-05
公开(公告)号: CN102220087A 公开(公告)日: 2011-10-19
发明(设计)人: 雷红;陈入领;吴鑫;布乃敬;李虎;蒋磊;梁敏 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种用于计算机硬盘基片的抛光液,特别是一种可用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光,属于计算机存储器硬盘制造及表面抛光技术领域。本发明的抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料、氧化剂、分散剂、表面活性剂和水,其特点在于该抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料。本发明的多孔纳米氧化铝抛光液组成及其重量百分比如下:多孔纳米氧化铝磨料1~10%;氧化剂1~6%;分散剂0.2~1.0%;表面活性剂0.1~1%;余重为水。采用本发明提供的抛光液对硬盘基片进行抛光,可降低基片表面的粗糙度。多孔纳米氧化铝的粒径为50~500nm,孔径为1~20nm;氧化剂为双氧水,分散剂为六偏磷酸钠,表面活性剂为十二烷基聚氧乙烯醚,水采用去离子水。
搜索关键词: 一种 用于 计算机 硬盘 抛光 多孔 纳米 氧化铝
【主权项】:
一种用于计算机硬盘基片抛光的多孔纳米氧化铝抛光液,其特征在于该抛光液具有以下的组分及其重量百分含量为:多孔纳米氧化铝                           1~10%氧化剂双氧水                              1~6%分散剂六偏磷酸钠                        0.2~1.0%表面活性剂十二烷基聚氧乙烯醚            0.1~1.0%去离子水                                    余量所述的多孔纳米氧化铝其粒径为50~500nm,孔径为1~20nm。
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