[发明专利]一种用于计算机硬盘基片抛光的多孔纳米氧化铝抛光液无效
| 申请号: | 201110114788.5 | 申请日: | 2011-05-05 |
| 公开(公告)号: | CN102220087A | 公开(公告)日: | 2011-10-19 |
| 发明(设计)人: | 雷红;陈入领;吴鑫;布乃敬;李虎;蒋磊;梁敏 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
| 主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
| 代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
| 地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种用于计算机硬盘基片的抛光液,特别是一种可用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光,属于计算机存储器硬盘制造及表面抛光技术领域。本发明的抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料、氧化剂、分散剂、表面活性剂和水,其特点在于该抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料。本发明的多孔纳米氧化铝抛光液组成及其重量百分比如下:多孔纳米氧化铝磨料1~10%;氧化剂1~6%;分散剂0.2~1.0%;表面活性剂0.1~1%;余重为水。采用本发明提供的抛光液对硬盘基片进行抛光,可降低基片表面的粗糙度。多孔纳米氧化铝的粒径为50~500nm,孔径为1~20nm;氧化剂为双氧水,分散剂为六偏磷酸钠,表面活性剂为十二烷基聚氧乙烯醚,水采用去离子水。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 用于 计算机 硬盘 抛光 多孔 纳米 氧化铝 | ||
【主权项】:
一种用于计算机硬盘基片抛光的多孔纳米氧化铝抛光液,其特征在于该抛光液具有以下的组分及其重量百分含量为:多孔纳米氧化铝 1~10%氧化剂双氧水 1~6%分散剂六偏磷酸钠 0.2~1.0%表面活性剂十二烷基聚氧乙烯醚 0.1~1.0%去离子水 余量所述的多孔纳米氧化铝其粒径为50~500nm,孔径为1~20nm。
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