[发明专利]处理装置、处理系统以及坐标校正方法无效
| 申请号： | 201110113476.2 | 申请日： | 2011-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN102237262A | 公开（公告）日： | 2011-11-09 |
| 发明（设计）人： | 菅义明 | 申请（专利权）人： | 奥林巴斯株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;G01B11/00;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种能够在减轻生产效率低下的同时自动校正制程中所登记的坐标与实际的坐标的偏差的处理装置、处理系统以及坐标校正方法，基板检查/测量装置(10)确定输送台(13)上载置的基板W中的模型的实际坐标，并将确定后的实际坐标登记到制程中(步骤S 114)，上述基板检查/测量装置(10)根据存储有基板W中的模型的检查/测量坐标的制程，对输送台(13)上载置的基板W中的模型进行检查/测量。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 系统 以及 坐标 校正 方法 | ||
【主权项】：
一种处理装置，该处理装置根据存储有载置台上载置的基板中的处理对象的坐标的制程来对上述基板中的上述处理对象执行规定处理，上述处理装置的特征在于，具备：实际坐标确定单元，其确定上述载置台上载置的上述基板中的上述处理对象的实际坐标；以及实际坐标登记单元，其将通过上述实际坐标确定单元确定出的上述实际坐标登记到上述制程中。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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