[发明专利]一种纳米氢氧化铜的均匀沉淀法制备工艺

摘要

本发明涉及一种金属氧化物半导体技术领域，具体是一种纳米氢氧化铜的均匀沉淀法制备工艺。本发明具有如下的有益效果：其纳米氢氧化铜粉体晶体尺寸均一，活性好，具有可控的特性；同时，本发明所采用的制备方法简单，价格低廉，节省了能源，且更加安全适用。在化学工业中，氢氧化铜是有名的催化剂、媒染剂、着色剂和人造丝颜料，在农业生产中，它又是杀真菌剂——波尔多液的主要成分，所以应用十分广泛。

主权项

本发明是一种纳米氢氧化铜的均匀沉淀法制备工艺，包括如下步骤：步骤一，准确称取一定量的无水硫酸铜，并加入一定体积的去离子水配置成一定浓度的溶液；步骤二，向步骤一所得的硫酸铜溶液中加入一定体积一定浓度的氨水，生成铜氨溶液；步骤三，向步骤二所得的铜氨溶液中加入一定量的氢氧化钡；步骤四，对步骤三所得的混合溶液在一定温度在搅拌一定长的时间；步骤五，将步骤四所得的混合溶液离心分离，分别得到上层清夜Cu(NH3)6(OH)2和硫酸钡沉淀；步骤六，取步骤五所得的上层清液，并对其在一定温度下进行加热搅拌，产生氢氧化铜沉淀；步骤七，将步骤六所得的混合体系过滤，得到氢氧化铜沉淀；步骤八，将步骤七所得的沉淀分别用蒸馏水和无水乙醇洗涤一定次数；步骤九，步骤八洗涤后的沉淀在一定温度真空干燥既得纳米氢氧化铜颗粒。