[发明专利]一种基于MEMS工艺的可调FP光学滤波器的制作方法无效
| 申请号： | 201110095547.0 | 申请日： | 2011-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN102225739A | 公开（公告）日： | 2011-10-26 |
| 发明（设计）人： | 吴亚明;翟雷应;徐静;李四华;钟少龙 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;G02B26/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 潘振甦 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于MEMS技术的可调FP光学滤波器的制作方法，其特征在于：采用两次光刻制作出所有图形的刻蚀窗口；采用一次等离子体硅刻蚀完成中间FP空气腔体及可动硅反射镜面结构的制作；采用一次硅-硅键合、等离子体干法刻蚀、HF酸腐蚀二氧化硅层释放工艺制造硅膜可动反射镜；采用硬模板选择蒸镀的方法制作FP腔内两反射镜的高反膜及增透膜；采用一次硅-玻璃键合形成最终的FP腔滤波器。极大地简化了工艺流程，保证了FP腔镜面光洁度和平行度，提高了所制造的FP滤波器的光学技术指标和芯片成品率。与现有的同类产品制作工艺相比具有更好的工艺兼容性及可操作性，驱动电压更低，具有较好的光学调谐重复性和稳定性。可广泛应用于光通信WDM系统。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 mems 工艺 可调 fp 光学 滤波器 制作方法 | ||
【主权项】：
一种基于MEMS技术的可调谐FP腔光学滤波器的制造方法，其特征在于包括5个工艺操作步骤：腔体隔离体及可动微镜支撑结构的制作；玻璃衬底上及可动微镜上光学高反膜及增透膜的制备；FP腔体的装配；电极的制作；FP滤波器的划片与光纤耦合封装；采用两次光刻制作出所有图形的刻蚀窗口；采用一次等离子体硅刻蚀完成中间FP空气腔体及可动硅反射镜面结构的制作；采用一次硅‑硅键合、等离子体干法刻蚀、HF酸腐蚀二氧化硅层释放工艺制造硅膜可动反射镜；采用硬模板选择蒸镀的方法制作FP腔内两反射镜的高反膜及增透膜；采用一次硅‑玻璃键合形成最终的FP腔滤波器。
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