[发明专利]特种版多层次高精度套雕制版实现方法无效
| 申请号： | 201110094544.5 | 申请日： | 2011-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN102229279A | 公开（公告）日： | 2011-11-02 |
| 发明（设计）人： | 葛建中;葛佳鑫;崔景芝 | 申请（专利权）人： | 北京罗赛尔科技有限公司 |
| 主分类号： | B41C1/05 | 分类号： | B41C1/05 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 102209 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于激光制辊制版雕刻的一种方法，特别涉及一种用于印刷制版，制辊中的同一图案的多次精确套雕实现。该方法首先通过在设备和版辊上分别设置特殊标记与检测装置，通过标记检测与智能比对，自动获得套雕空间偏差量，并联动相关设备运动控制系统，实现二者之间的高精度三维定位，使空间定位精度达到±1微米量级。其次通过理论分析建立版辊、设备、工序与环境的空间变化模型，并在版辊和设备、工艺各环节合理布设多组传感器进行检测，经过反复实验修正相关参数，在加工过程中应用相关参数进行加工工艺补偿修正。通过该方法，在几十小时甚至上百小时不同工艺环境变化条件下，可保证每次套雕处理空间重合精度都满足优于10微米的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 特种 多层次 高精度 制版 实现 方法 | ||
【主权项】：
一种用于印刷制版，制辊中的同一图案的多次精确套雕的实现方法。其特征是：首先通过在激光制版设备和版辊上分别设置特殊标记与检测装置，通过标记检测与智能比对，自动获得套雕空间偏差量，并联动相关设备运动控制系统，实现二者之间的高精度三维定位，使空间定位精度达到±1微米量级。其次通过理论分析建立版辊、设备、工序与环境的空间变化模型，并在版辊和设备、工艺各环节合理布设多组传感器进行检测，经过反复实验修正相关参数，在加工过程中应用相关参数进行加工工艺补偿修正。保证大型版辊最终多次综合套雕精度达到10微米级，满足高精细特种制版要求。
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