[发明专利]介质输送单元、介质处理装置及介质输送方法有效
| 申请号: | 201110093893.5 | 申请日: | 2008-04-07 |
| 公开(公告)号: | CN102243883A | 公开(公告)日: | 2011-11-16 |
| 发明(设计)人: | 川上秀树 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号: | G11B17/10 | 分类号: | G11B17/10 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘文海 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供一种介质输送单元及具备其的介质处理装置,其中,保持部以保持所述最上位置的介质的方式起作用。输送臂支承所述保持机构。所述输送臂具备分离机构,该分离机构以将位于利用所述保持机构保持的最上部的介质的正下的第二片介质分离的方式起作用。 | ||
| 搜索关键词: | 介质 输送 单元 处理 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种介质输送单元(31),其特征在于,用于输送以层叠的状态收容于堆积器(21、22)中的多个板状的介质中的位于最上位置的介质(M),所述介质输送单元(31)具备:用于保持所述最上位置的介质(M)的保持机构(130);具有所述保持机构(130)的输送臂(36);用于使所述输送臂(36)升降的升降机构(37、104),所述输送臂(36)具备分离机构(131),该分离机构(131)用于将紧接在利用所述保持机构(130)保持的所述最上位置的介质(M)之下的第二片介质(M)分离,所述分离机构(131)包括分离部件(182),该分离部件(182)具有能够移动且能够与形成在所述第二片介质(M)上的中心孔(Ma)的内周面(Mb)接触的接触片(183),通过使所述接触片(183)移动而使所述第二片介质(M)沿所述第二片介质(M)的半径方向移动,所述分离机构(131)构成为,使所述分离部件(182)的所述接触片(183)与所述第二片介质(M)的所述中心孔(Ma)的所述内周面(Mb)接触,在所述保持机构(130)保持了所述最上位置的介质(M)后所述升降机构(37、104)使所述输送臂(36)上升的期间,从所述最上位置的介质(M)分离所述第二片介质(M)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110093893.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于诊断结核病的方法和装置
- 下一篇:一种铁催化剂还原NO的方法





