[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 201110070316.4 | 申请日： | 2006-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN102117018A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | N·R·坎帕;S·N·L·唐德斯;C·A·胡根达姆;N·坦凯特;S·舒勒波夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。其中，构造成可干燥浸入式光刻装置中的表面的气刀被优化设计，以便通过保证在被干燥的表面上的液体膜中建立压力梯度来去除液体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻投影装置，所述光刻投影装置设置成通过液体将图案从图案形成装置投射到衬底上，所述光刻投影装置包括：构造成将气体提供到待干燥的表面上的气刀；和抽取器，所述抽取器与所述气刀相邻设置，用于去除气体、液体或者这两者；其中所述气刀的出口和所述抽取器的入口形成在大致为平的表面上，所述抽取器的入口和所述出口之间的距离是所述大致为平的表面在所述气刀的相对于抽取器的另一侧延伸至另一抽取器或在所述另一侧的所述平的表面的末端中的更近的一个的距离的0.5倍至0.8倍。
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