[发明专利]阻抗匹配元件有效
| 申请号： | 201110066476.1 | 申请日： | 2011-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN102479999A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 刘若鹏;徐冠雄;栾琳;季春霖;赵治亚;方能辉 | 申请（专利权）人： | 深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司 |
| 主分类号： | H01Q15/00 | 分类号： | H01Q15/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省深圳市南山区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种阻抗匹配元件，设置于两介质之间，元件由多个均匀的超材料片层沿垂直于片层表面方向堆叠成为一体，超材料片层包括基材和多个附着在基材上的人造微结构，首位片层和末尾片层的阻抗分别与第一介质和第二介质的阻抗相同，首位片层附着有多个具有第一图形的人造微结构，末尾片层附着有多个具有第二图形的人造微结构，中间若干片层所附着的人造微结构的图形为第一图形和第二图形的组合，沿片层堆叠方向第一图形连续减小且第二图形连续增大。本发明的阻抗匹配元件采用多个超材料片层堆叠形成阻抗渐变层，该阻抗匹配元件可消除两介质间的阻抗突变，进而解决了电磁波在经过两介质分界面时发生反射而导致电磁波能量损耗的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 阻抗匹配 元件 | ||
【主权项】：
一种阻抗匹配元件，设置于第一介质与第二介质之间，其特征在于，所述元件由多个相互平行的超材料片层沿垂直于所述片层表面方向堆叠形成，所述超材料片层包括片状的基材和多个附着在所述基材上的人造微结构，首位片层和末尾片层的阻抗分别与第一介质和第二介质的阻抗相同，首位片层附着有多个具有第一图形的人造微结构，末尾片层附着有多个具有第二图形的人造微结构，中间若干片层所附着的人造微结构的图形为第一图形和第二图形的组合，沿片层堆叠方向第一图形连续减小且第二图形连续增大。
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