[发明专利]反射光学元件、投射系统和投射曝光设备有效
| 申请号： | 201110065446.9 | 申请日： | 2011-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN102193121A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 汉斯-于尔根.曼 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G02B17/02;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本申请公开了一种反射光学元件、投射系统和投射曝光设备。该反射光学元件用于紫外到极紫外波长范围中的工作波长。该反射光学元件包括在基底上的具有多层系统的反射面，所述多层系统具有至少两种交替材料的层，所述两种交替材料在工作波长具有不同的折射率实部。某个入射角带宽分布的工作波长的辐射可以入射在所述反射光学元件上。所述反射面具有一个或多个第一部分和一个或多个其它部分，第一部分中的交替材料的层具有第一周期厚度，以及第二部分中的交替材料的层具有第一周期厚度和至少一个其它周期厚度。第一部分和其它部分在反射面上的布置适配于所述入射角带宽分布。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 光学 元件 投射 系统 曝光 设备 | ||
【主权项】：
一种反射光学元件，用于紫外到极紫外波长范围中的工作波长，包括在基底上的具有多层系统的反射面，所述多层系统具有至少两种交替材料的层，所述两种交替材料在工作波长具有不同的折射率实部，其中，某个入射角带宽分布的所述工作波长的辐射可以入射在所述反射光学元件上，并且其中，所述反射面包括一个或多个第一部分和一个或多个其它部分，在所述第一部分中所述交替材料的层具有第一周期厚度，在所述其他部分中所述交替材料的层具有第一周期厚度和至少一个其它周期厚度，其特征在于：所述第一部分和其它部分(A1，A2)在所述反射面(21)上的布置适配于所述入射角带宽分布。
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