[发明专利]一种电沉积型光致抗蚀剂及其制备方法和成膜方法有效
| 申请号: | 201110060617.9 | 申请日: | 2011-03-14 |
| 公开(公告)号: | CN102156384A | 公开(公告)日: | 2011-08-17 |
| 发明(设计)人: | 刘萍;张双庆 | 申请(专利权)人: | 深圳丹邦科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/027;G03F7/038;C25D13/06 |
| 代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀纯 |
| 地址: | 518057 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种电沉积型光致抗蚀剂,包括如下组份:17.0-19.0wt%的水性丙烯酸类共聚物基体树脂、0.5-0.7wt%的光产酸剂、0.2-0.4wt%的光敏剂、4.0-5.0wt%的活性稀释剂、1.0-2.0wt%的表面活性剂、2.0-3.0wt%的无机填料及70.0-72.0wt%的溶剂。本发明还公开了一种电沉积型光致抗蚀剂的制备方法,包括如下步骤:1)上述的水性丙烯酸类共聚物基体树脂的制备;2)光致抗蚀剂的配制。本发明还公开了一种电沉积型光致抗蚀剂的成膜方法,包括步骤:将上述的光致抗蚀剂装入电沉积槽中进行电沉积固化成膜,本发明具有成本低、工艺简单,易于产业化等特点。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 沉积 型光致抗蚀剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种电沉积型光致抗蚀剂,其特征在于:包括如下组份:17.0‑19.0wt%的水性丙烯酸类共聚物基体树脂、0.5‑0.7wt%的光产酸剂、0.2‑0.4 wt %的光敏剂、4.0‑5.0wt%的活性稀释剂、1.0‑2.0wt%的表面活性剂、2.0‑3.0wt%的无机填料及70.0‑72.0wt%的溶剂。
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