[发明专利]抛光液物理参数测量装置、测量方法和化学机械抛光设备

摘要

本发明公开了一种用于化学机械抛光设备的抛光液物理参数测量装置及测量方法。化学机械抛光设备包括抛光头、转台、抛光盘和抛光垫，其中抛光垫设置有通孔。抛光液物理参数测量装置包括传感器，传感器设置在抛光盘内且适于通过抛光垫内的通孔与抛光液接触以测量抛光液的物理参数；变送器，变送器设置在转台内且与传感器相连用于将传感器的测量信号转换为标准电信号；和处理单元，处理单元与变送器相连用于获取标准电信号以得到抛光液的物理参数。根据本发明实施例的抛光液物理参数测量装置可以在线测量并得到抛光头与抛光垫之间的抛光液的物理参数。本发明还公开了一种具有所述抛光液物理参数测量装置的化学机械抛光设备。

主权项

一种用于化学机械抛光设备的抛光液物理参数测量装置，所述化学机械抛光设备包括抛光头、转台、设置在所述转台的上表面上的抛光盘和设置在所述抛光盘的上表面上且与所述抛光头相对的抛光垫，其中所述抛光垫设置有通孔，其特征在于，所述抛光液物理参数测量装置包括：传感器，所述传感器设置在所述抛光盘内且适于通过所述抛光垫内的通孔与抛光液接触以测量所述抛光液的物理参数；变送器，所述变送器设置在所述转台内且与所述传感器相连用于将所述传感器的测量信号转换为标准电信号；和处理单元，所述处理单元与所述变送器相连用于获取所述标准电信号以得到所述抛光液的物理参数。