[发明专利]抛光液厚度测量装置、测量方法和化学机械抛光设备无效
申请号: | 201110058422.0 | 申请日: | 2011-03-10 |
公开(公告)号: | CN102278967A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
发明(设计)人: | 路新春;赵德文;何永勇;雒建斌 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G01B21/08 | 分类号: | G01B21/08;B24B37/02;H01L21/00;H01L21/66 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于化学机械抛光设备的抛光液厚度测量装置及测量方法。化学机械抛光设备包括抛光头、转台、抛光盘和抛光垫。抛光液厚度测量装置包括距离传感器,距离传感器设置在抛光盘内用于测量距离传感器到抛光头上的晶圆的距离;距离变送器,距离变送器设置在转台内且与距离传感器相连用于将距离传感器的测量信号转换为标准电信号;处理单元,处理单元与距离变送器相连用于获取标准电信号以得到抛光头与抛光垫之间的抛光液厚度。根据本发明实施例的抛光液厚度测量装置可以在线测量并得到抛光头与抛光垫之间的抛光液厚度。本发明还公开了一种具有所述抛光液厚度测量装置的化学机械抛光设备。 | ||
搜索关键词: | 抛光 厚度 测量 装置 测量方法 化学 机械抛光 设备 | ||
【主权项】:
一种用于化学机械抛光设备的抛光液厚度测量装置,所述化学机械抛光设备包括抛光头、转台、设置在所述转台的上表面上的抛光盘和设置在所述抛光盘的上表面上且与所述抛光头相对的抛光垫,其特征在于,所述抛光液厚度测量装置包括:距离传感器,所述距离传感器设置在所述抛光盘内用于测量所述距离传感器到所述抛光头上的晶圆的距离;距离变送器,所述距离变送器设置在所述转台内且与所述距离传感器相连用于将所述距离传感器的测量信号转换为标准电信号;和处理单元,所述处理单元与所述距离变送器相连用于获取所述标准电信号以得到所述抛光头与所述抛光垫之间的抛光液厚度。
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