[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201110056943.2 | 申请日： | 2011-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN102193329A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | W·P·范德兰特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。并且披露了一种配置用于测量布置在测量位置中的衬底的水平高度的水平传感器。所述水平传感器包括：投影单元，用以将多个测量束投影到衬底上的多个测量位置上；检测单元，用以接收在衬底上反射之后的测量束；以及处理单元，用以基于由所述检测单元接收的所述被反射的测量束来计算水平高度，其中，所述投影单元和所述检测单元布置成当所述衬底布置在所述测量位置中时邻近所述衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种配置用于测量布置在测量位置中的衬底的水平高度的水平传感器，所述水平传感器包括：投影单元，用以将多个测量束投影到衬底上的多个测量位置上；检测单元，用以接收在衬底上反射之后的测量束；以及处理单元，用以基于由所述检测单元接收的所述被反射的测量束来计算水平高度，其中，所述投影单元和所述检测单元布置成当所述衬底布置在所述测量位置中时邻近所述衬底。
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