[发明专利]半导体元件及其制作方法与图像感测元件有效

专利信息
申请号: 201110054069.9 申请日: 2011-03-04
公开(公告)号: CN102446930A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 周世培;刘世昌;杜友伦;蔡嘉雄 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L27/148
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 张浴月;刘文意
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种半导体元件及其制作方法与图像感测元件。图像感测元件包括:一像素,位于一基板中;一第一微透镜,内埋于位于基板上的一膜层中,第一微透镜的一第一上表面具有一角状的顶端;一彩色滤光片,位于膜层上;以及一第二微透镜,位于彩色滤光片上,第二微透镜的一第二上表面具有一接近圆形的轮廓;其中像素、第一微透镜、彩色滤光片、以及第二微透镜皆至少部分彼此对齐。本发明的半导体元件的制作工艺相当快速且便宜,而且光聚焦性能较佳。
搜索关键词: 半导体 元件 及其 制作方法 图像
【主权项】:
一种半导体元件,包括:一辐射感测单元,形成于一基板中;一透明膜层,形成于该基板上;以及一微透镜,内埋于该透明膜层中,其中该微透镜具有一尖顶端部。
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