[发明专利]具有改进的真空处理的X射线管无效
| 申请号： | 201110042715.X | 申请日： | 2011-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN102446678A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | L·唐;E·B·比尔;R·M·罗菲尔斯;K·科皮塞蒂 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | H01J35/24 | 分类号： | H01J35/24;H01J35/06;H01J35/08;H01J35/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 朱海煜;王忠忠 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在一个实施例中，X射线管(10)包括：电子束源(14)，其包括配置成发射电子束(32)的主阴极(16)；和阳极组件(18)，其包括配置成接收该电子束(32)并且当由该电子束(32)撞击时发射X射线(34)的阳极(20)。该X射线管(10)还包括外壳(12)，至少该主阴极(16)和该阳极(20)设置在该外壳中(12)，和设置在该外壳(12)中并且配置成发射电子以撞击该阳极(20)用于对该外壳(12)除气的次阴极(22)。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改进 真空 处理 射线 | ||
【主权项】：
一种X射线管(10)，其包括：电子束源(14)，其包括配置成发射电子束(32)的主阴极(16)；阳极组件(18)，其包括配置成接收所述电子束(32)并且当由所述电子束(32)撞击时发射X射线(34)的阳极(20)；外壳(12)，至少所述主阴极(16)和所述阳极(20)设置在所述外壳中(12)；以及设置在所述外壳(12)中并且配置成发射电子以撞击所述阳极(20)以用于对所述外壳(12)除气的次阴极(22)。
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