[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201110042167.0 | 申请日： | 2011-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN102163000A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | A·V·帕迪瑞;B·门奇奇科夫;S·A·米德莱布鲁克斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本文公开了一种光刻设备和器件制造方法，尤其是一种控制光刻设备的扫描功能的方法以及如此配置的光刻设备。所述方法包括以下步骤：曝光监控晶片，以确定与所述扫描功能相关的基线控制参数；从所述监控晶片周期性地获取所述基线控制参数；根据所述基线控制参数确定参数漂移；和基于所述确定步骤进行校正动作，其中与用于在所述扫描控制模块和所述光刻设备之间的通信的参数表达不同的参数表达被用于控制所述扫描控制模块。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，所述光刻设备包括：支撑件，构造用于支撑图案形成装置；衬底台，构造用于保持衬底；图案形成系统，配置用于将图案从所述图案形成装置转移到所述衬底的目标部分上，控制模块，能够操作用于通过从一个或更多的参考衬底周期性地获取用于限定基线控制参数的测量结果来辅助控制所述支撑件、衬底台或图案形成系统中的至少一个，以便确定从所述基线控制参数的参数漂移，由此使得能够许可所述漂移和/或对所述漂移进行校正，所述参考衬底最初已经进行了图案化，以便确定所述基线控制参数；在所述控制模块和所述另外的光刻设备之间的接口；其中所述接口的参数表达不同于所述控制模块的控制参数表达。
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