[发明专利]清洗方法及其装置无效
| 申请号： | 201110035382.8 | 申请日： | 2011-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN102194473A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 宫岛俊英;布赖恩·拉特雷 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 张敬强;武也平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供清洗方法及清洗装置。在清洗盘等的基板的装置中，为了减少清洗所需的纯水量、且将装置小型化而将装置全体的地板面积变小，本发明的清洗装置具有：在对基板的两面供给纯水的同时使刷子旋转，从而将基板的两面摩擦而清洗的擦洗清洗单元；将用擦洗清洗单元进行了清洗处理的基板的表面用纯水清洗的冲洗单元；以及使利用冲洗单元进行了清洗处理的基板的表面干燥的干燥单元，擦洗清洗单元具有对供给到上述基板的两面的纯水施加超声波的超声波施加机构，并且在对基板的两面供给用该超声波施加机构施加了超声波的纯水的同时使刷子旋转，从而将基板的两面摩擦而清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
一种清洗装置，具有：在对基板的两面供给纯水的同时使刷子旋转，从而将上述基板的两面摩擦而清洗的擦洗清洗单元；将用该擦洗清洗单元进行了清洗处理的基板的表面用纯水清洗的冲洗单元；以及使利用该冲洗单元进行了清洗处理的基板的表面干燥的干燥单元，该清洗装置的特征在于，上述擦洗清洗单元具有对供给到上述基板的两面的纯水施加超声波的超声波施加机构，并且在对上述基板的两面供给用该超声波施加机构施加了超声波的纯水的同时使上述刷子旋转，从而将上述基板的两面摩擦而清洗。
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