[发明专利]接合结构体及接合结构体的制造方法有效
| 申请号: | 201110026480.5 | 申请日: | 2011-01-18 |
| 公开(公告)号: | CN102163564A | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
| 发明(设计)人: | 中村太一;古泽彰男;酒谷茂昭;北浦秀敏;松尾隆广 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L23/488 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 冯雅;胡烨 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明涉及接合结构体及接合结构体的制造方法。本发明非常希望实现功率半导体模块的高输出功率化,需要进一步提高接合部的耐热性,使得即使温度上升,用于将半导体元件与电极接合的接合部也不会熔融。本发明是一种接合结构体(1100)的制造方法,该方法是由半导体元件(1110)通过接合部(1130)与电极(1120)接合而成的接合结构体(1100)的制造方法,其特征在于,包括:焊锡球载放工序,该焊锡球载放工序中,将用Ni镀层(1231)覆盖Bi球(1232)的表面而成的焊锡球(1230)载放于已加热至Bi的熔点以上的温度的电极(1120)上;接合材料形成工序,该接合材料形成工序中,将焊锡球(1230)按压于经加热的电极(1120)上,使Ni镀层(1231)破碎,使熔融状态的Bi在经加热的电极(1120)的表面扩散,形成含有由Bi和Ni组成的Bi系金属互化物(1131)的接合材料(1130’);以及半导体元件载放工序,该半导体元件载放工序中,将半导体元件(1110)载放于接合材料(1130’)上。 | ||
| 搜索关键词: | 接合 结构 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种接合结构体的制造方法,该方法是由半导体元件通过接合部与电极接合而成的接合结构体的制造方法,其特征在于,包括:焊锡球载放工序,该焊锡球载放工序中,将用Ni镀层覆盖Bi球的表面而成的焊锡球载放于已加热至Bi的熔点以上的温度的所述电极上;接合材料形成工序,该接合材料形成工序中,将所述焊锡球按压于经加热的所述电极上,使所述Ni镀层破碎,使熔融状态的Bi在经加热的所述电极的表面扩散,形成含有由Bi和Ni组成的Bi系金属互化物的接合材料;以及半导体元件载放工序,该半导体元件载放工序中,将所述半导体元件载放于所述接合材料上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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