[发明专利]气体处理系统

摘要

如转盘式反应器(10)的有机金属化学汽相沉积(MOCVD)反应器具有气体喷射器头部，该喷射器头部具有布置在相邻的气体进口之间的扩散器(129)。所述扩散器在下游方向上成锥形。所述喷射器头部理想地具有用于如烷基金属的第一气体的、径向成排布置的进口(117)，该进口从反应壁向内径向地终止以使反应壁上的反应物的沉积最少。喷射器头部还理想地具有用于如氨气的第二气体的、布置在成排的第一气体进口之间的区域中的进口(125)，并且另外具有用于第二气体的、与旋转轴线同轴的中心进口(135)。

主权项

一种反应器，用于利用至少第一气体和第二气体对一个或多个基片的气体处理，该反应器包括：反应室；基片保持器，用于支承安装在该反应室内的该一个或多个基片，以围绕在上游和下游方向上延伸的轴线旋转；喷射器头部，其布置在该基片保持器的上游，该喷射器头部包括一结构，该结构限定了：连接至该第一气体的多个第一气体进口，第一反应气体进口被布置成在垂直于该轴线的第一径向方向上延伸的第一排和在垂直于该轴线并且垂直于该第一径向方向的第二径向方向上延伸的第二排；和连接至该第二气体的多个第二气体区进口，该第二气体区进口被布置在成排的第一气体进口之间在围绕该轴线的喷射器头部的象限中。