[发明专利]硬且低摩擦的氮化物涂层有效
| 申请号： | 201080071081.4 | 申请日： | 2010-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN103298967A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 弗兰克·斯科拉;艾利·埃尔德米尔;穆斯图法·乌根;奥斯曼·勒旺·埃伊尔梅兹 | 申请（专利权）人： | 盖伦国际公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 武晶晶;杨淑媛 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了一种硬的耐磨涂层，并且提供了一种在有待暴露于烃的基底上形成该涂层的方法。在一个室中提供一种基底。通过物理气相沉积（PVD）在该基底上沉积一种薄膜，其中该薄膜包括一个本体层和一个外部终止层。缓和该终止层的沉积。将该终止层从该薄膜除去，留下布置在该基底上的剩余的本体层。并且当该基底在一种具有耐磨添加剂、摩擦改良剂、或天然存在的化合物的环境中暴露于烃时，在该本体层的一个外表面上形成一种耐用摩擦层以创建一种具有低摩擦和抗磨性能的涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 摩擦 氮化物 涂层 | ||
【主权项】：
一种在有待暴露于烃的基底上形成涂层的方法，该方法包括：在一个室中提供一种基底；通过物理气相沉积（PVD）在该基底上沉积一种薄膜，该薄膜包括一个本体层和一个外部终止层；并且缓和该终止层的沉积；将该终止层从该薄膜除去，留下布置在该基底上的剩余的本体层；其中，当该基底在一种具有耐磨添加剂、摩擦改良剂和天然存在的化合物中的至少一种的环境中暴露于烃时，在该本体层的一个外表面上形成一种耐用摩擦层以创建一种具有低摩擦和抗磨性能的涂层。
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