[发明专利]用于光电子学的酞菁/聚合物纳米复合墨水有效
| 申请号: | 201080069772.0 | 申请日: | 2010-11-05 |
| 公开(公告)号: | CN103329298B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
| 发明(设计)人: | 许宗祥;华礼生 | 申请(专利权)人: | 香港城市大学 |
| 主分类号: | H01L51/48 | 分类号: | H01L51/48;H01L51/44;H01L51/46;C09B47/12;C09D11/00 |
| 代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人: | 张福根,吴小瑛 |
| 地址: | 中国香港九龙*** | 国省代码: | 香港;81 |
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| 摘要: | 本发明的一些方面描述酞菁(Pc)分子,其核心具有外围修饰(如烷基取代基)从而Pc可以例如在真空升华下自组装,并且形成尺寸为纳米量级的纳米晶体。可以例如通过简单气相沉积法制备Pc纳米晶体。其它方面描述一种基于聚合物基质中的Pc纳米晶体的聚合物复合墨水,其可以例如在溶液处理方法下形成。例如,聚合物基质可以是与Pc纳米晶体(其是固有p‑型的半导体)不同的p‑型共轭聚合物。这可以增加聚合物复合墨水的成膜能力和电荷输送性质。聚合物复合墨水可以用于制造例如光电器件,例如光伏器件和/或薄膜晶体管。光电器件可以显示高功率转换效率(PCE),例如6‑7%。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 电子学 聚合物 纳米 复合 墨水 | ||
【主权项】:
一种用于制造光电器件的方法,其包含以下步骤:由4‑烷基酞腈和二价金属盐的混合物合成酞菁;生长酞菁纳米晶体,其中所述酞菁纳米晶体具有纳米量级的尺寸,其中所述酞菁纳米晶体包含具有烷基取代基的核心,且其中因为核心的外缘修饰在核心中包括烷基取代基,这阻碍核心形成尺寸为大于纳米量级的酞菁纳米晶体,因此酞菁自组装成尺寸为纳米量级的酞菁纳米晶体;和将酞菁纳米晶体与至少一种共轭聚合物结合成薄膜。
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