[发明专利]造影成像设备及用于造影成像设备的探测器有效

专利信息
申请号: 201080067976.0 申请日: 2010-05-06
公开(公告)号: CN102985844A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 帕斯卡尔·戴索泰 申请(专利权)人: EOS成像公司
主分类号: G01T1/185 分类号: G01T1/185
代理公司: 上海天协和诚知识产权代理事务所 31216 代理人: 童锡君
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 用于在造影中探测和定位电离X射线或伽玛射线的X射线探测装置,该装置包含:X射线探测器,其包用于将入射X射线光子束中的入射X射线光子转换为可探测的电荷的括转换装置;以及用于在探测器中通过非线性放大增益系数放大电荷的放大装置,该非线性放大增益被描述为在入射X射线光子高通量时放大增益的减小量;以及放大增益调节装置,其被配置以根据X射线源的放射参数改变放大装置中的放大增益,该X射线源提供入射X射线光子束和/或被传播光子束,该入射光子束用于执行造影检查,该被传播光子束由探测器从X射线源通过待成像主体获得。X射线成像设备及操作该射线成像设备的方法也被呈现。
搜索关键词: 造影 成像 设备 用于 探测器
【主权项】:
一种X射线探测仪器,其用于在造影中探测和定位电离X射线或伽玛射线,所述仪器包含:X射线探测器,其包括转换装置,其用于将入射X射线光子束中的X射线光子转换为电荷;以及非线性放大装置,其用于在所述探测器内通过非线性放大增益系数放大电荷,所述非线性放大系数的特征是放大增益的减少量,所述放大增益的减少量响应于入射X射线高通量时入射X射线光子束通量的增长量;以及放大增益调节装置,其被配置以根据X射线源的放射参数和/或根据由X射线源经过成像主体后被所述探测器接收到的发射束来改变所述非线性放大装置的非线性放大增益,所述X射线源为待执行的造影检查提供入射X射线光子束。
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