[发明专利]微光刻投射曝光装置的照明系统有效
| 申请号： | 201080066624.3 | 申请日： | 2010-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN102884480A | 公开（公告）日： | 2013-01-16 |
| 发明（设计）人： | M.德冈瑟;D.菲奥尔卡;G-W.齐格勒 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 吴艳 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种微光刻投射曝光装置的照明系统包含空间光调制器(58)，其改变瞳面(38)中的强度分布。调制器(58)包含反射镜(64)的阵列(62)，反射镜(64)将照到的投射光(34)反射到取决于施加到反射镜的控制信号的方向。棱镜(60)朝向空间光调制器(58)导引投射光(34)，并具有投射光(34)照射两次的双通表面(76)，即，第一次为离开棱镜(60)时且在被反射镜(64)反射之前，第二次为进入棱镜(60)时且在被反射镜(64)反射之后。提供瞳干扰抑制装置，当投射光(34)第一次照到双通表面(76)时，降低投射光(34)的反射，和/或避免反射造成的光部分(78)贡献于瞳面(38)中的强度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 装置 照明 系统 | ||
【主权项】：
一种微光刻投射曝光装置的照明系统，包含：a)光源（30），被配置为产生投射光（34）；b)瞳面（28）；c)空间光调制器（58），被配置为改变所述瞳面（38）中的强度分布，所述空间光调制器（58）包含反射元件（64）的阵列（62），所述反射元件被配置为将照射的投射光（34）反射到取决于施加到所述反射元件的控制信号的方向；d)光束折迭单元，包含至少一个棱镜（60），其中所述光束折迭单元朝向所述空间光调制器（58）引导所述光源（30）产生的所述投射光（34）；其中所述至少一个棱镜（60）具有所述投射光（34）照射两次的双通表面（76），第一次为离开所述至少一个棱镜（60）时且在所述投射光（34）被所述反射元件反射之前，第二次为进入所述至少一个棱镜（60）时且在所述投射光（34）被所述反射元件反射之后，其特征在于：瞳干扰抑制装置，其被配置为：‑当所述投射光第一次照到所述双通表面（76）时，降低所述投射光的反射；和/或‑避免这样的反射造成的光部分（78）贡献于所述瞳面（38）中的强度分布。
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