[发明专利]用于以光学方式测量范围、位置和/或轮廓的传感器及其方法有效

专利信息
申请号: 201080057087.6 申请日: 2010-12-22
公开(公告)号: CN102687036A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: T·施塔梅斯特;T·奥托 申请(专利权)人: 微-埃普西龙光电股份有限公司
主分类号: G01S7/481 分类号: G01S7/481;G01S17/06
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 管琦琦
地址: 德国德累斯*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种光学传感器,用于以光学方式测量被测目标体的范围、位置和/或轮廓,所述的被测目标体因被测目标体的温度引发电磁辐射,所述的传感器具有光源和检测器,所述的光源用于被测目标体的表面照明,所述的检测器用于检测被测目标体反射的照明光,其特征在于所述光源产生的光的波长低于被测目标体的普朗克辐射谱的峰值,由此带来甚至可对发射电磁辐射的物体进行测性。详细说明了一种相应的方法。
搜索关键词: 用于 光学 方式 测量 范围 位置 轮廓 传感器 及其 方法
【主权项】:
用于以光学方式测量被测目标体的范围、位置和/或轮廓的传感器,所述的被测目标体因被测目标体的温度引发电磁辐射,所述的传感器具有光源和检测器,所述的光源用于被测目标体的表面照明,所述的检测器用于检测被测目标体反射的照明光,其特征在于:所述光源产生的光的波长低于被测目标体的普朗克辐射谱的峰值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于微-埃普西龙光电股份有限公司,未经微-埃普西龙光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080057087.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top