[发明专利]作为BACE抑制剂的亚氨基噻二嗪二氧化物化合物、组合物和它们的用途有效
申请号: | 201080055589.5 | 申请日: | 2010-10-06 |
公开(公告)号: | CN102639135A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | J.D.斯科特;A.W.斯坦福德;E.J.吉尔伯特;J.N.卡明;U.伊泽洛;J.A.米西亚塞克;李国青 | 申请(专利权)人: | 先灵公司 |
主分类号: | A61K31/54 | 分类号: | A61K31/54 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李连涛;刘健 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: |
在它的许多实施方案中,本发明提供了某些亚氨基噻二嗪二氧化物化合物,包括式(I)化合物∶ |
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搜索关键词: | 作为 bace 抑制剂 氨基 噻二嗪 二氧化物 化合物 组合 它们 用途 | ||
【主权项】:
1.化合物或其互变异构体,或所述化合物或所述互变异构体的立体异构体,或其可药用盐,所述化合物具有结构式(I)∶
(I)其中∶-L1-代表键或选自下列的二价部分:-烷基-,-卤代烷基-,-杂烷基-,-烯基-和-炔基-;-L2-代表键或选自下列的二价部分:-烷基-,-卤代烷基-,-杂烷基-,-烯基-和-炔基-;每个-L3-独立地代表键或选自下列的二价部分:-烷基-,-卤代烷基-,-杂烷基-,-烯基-,-炔基-,-N(R7)-,-NHC(O)-,-C(O)NH-,-NHS(O)2-,-S(O)2NH-,-O-烷基-,-烷基-O-,-N(R7)-烷基-,-烷基-N(R7)-,-卤代烷基-NH-和-NH-卤代烷基-;m、n和p各自独立地选自整数,其中∶m是0或大于0;n是0或大于0;和p是0或大于0,其中m和n的和的最大值是A环上可有效用于取代的氢原子的最大数,其中p的最大值是B环上可有效用于取代的氢原子的最大数;R1选自∶H,烷基,杂烷基,杂卤代烷基,环烷基,环烷基烷基,杂环烷基,杂环烷基烷基-,芳基,芳烷基-,杂芳基,和杂芳基烷基-,其中R1的所述烷基、杂烷基、杂卤代烷基、环烷基、环烷基烷基-、杂环烷基、杂环烷基烷基-、芳基、芳烷基-、杂芳基和杂芳基烷基-中的每一个是未取代的或被一个或多个独立选择的R10基团取代;R2选自H,卤代基,烷基,卤代烷基和杂烷基,其中R2的所述烷基和所述卤代烷基中的每一个是未取代的,或被一个或多个独立选择的R10基团取代;R3选自H,卤代基,烷基,卤代烷基和杂烷基,其中R2的所述烷基和所述卤代烷基中的每一个是未取代的,或被一个或多个独立选择的R10基团取代;R4选自烷基,芳基,杂芳基,环烷基,环烯基,杂环烷基和杂环烯基,其中R4的所述烷基、芳基、杂芳基、环烷基、环烯基、杂环烷基和杂环烯基中的每一个是未取代的,或被一个或多个独立选择的R10基团取代;环A选自单环芳基,单环杂芳基,单环环烷基,单环环烯基,单环杂环烷基,单环杂环烯基和多环基团;每个环B(当存在时)独立地选自单环芳基,单环杂芳基,单环环烷基,单环环烯基,单环杂环烷基,单环杂环烯基和多环基团;每个R5(当存在时)独立地选自卤代基,-CN,-SF5,-OSF5,-NO2,-Si(R6)3,-P(O)(OR7)2,-P(O)(OR7)(R7),-N(R8)2,-NR8C(O)R7,-NR8S(O)2R7,-NR8C(O)N(R8)2,-NR8C(O)OR7,-C(O)R7,-C(O)2R7,-C(O)N(R8)2,-S(O)R7,-S(O)2R7,-S(O)2N(R8)2,-OR7,-SR7,烷基,卤代烷基,卤代烷氧基,杂烷基,烯基,炔基,环烷基,杂环烷基,芳基和杂芳基,其中R5(当存在时)的每个所述烷基、卤代烷基、卤代烷氧基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基和杂芳基独立地是任选未取代的,或进一步被一个或多个选自下列的独立选择的基团取代:低级烷基,低级烯基,低级炔基,低级杂烷基,卤代基,-CN,-SF5,-OSF5,-NO2,-N(R8)2,-OR7,-C(O)N(R8)2和环烷基;每个R6(当存在时)独立地选自烷基,芳基,芳烷基,卤代烷基,环烷基,环烷基烷基-,杂芳基和杂芳基烷基-;每个R7(当存在时)独立地选自H,烷基,烯基,杂烷基,卤代烷基,芳基,芳烷基-,杂芳基,杂芳基烷基-,环烷基,环烷基烷基-,杂环烷基和杂环烷基烷基-;每个R8(当存在时)独立地选自H,烷基,烯基,杂烷基,卤代烷基,卤代烯基,芳基,芳烷基-,杂芳基,杂芳基烷基-,环烷基,环烷基烷基-,杂环烷基和杂环烷基烷基-;每个R9(当存在时)独立地选自∶卤素,-CN,-SF5,-OSF5,-NO2,-Si(R6)3,-P(O)(OR7)2,-P(O)(OR7)(R7),-N(R8)2,-NR8C(O)R7,-NR8S(O)2R7,-NR8C(O)N(R8)2,-NR8C(O)OR7,-C(O)R7,-C(O)2R7,-C(O)N(R8)2,-S(O)R7,-S(O)2R7,-S(O)2N(R8)2,-OR7,-SR7,烷基,卤代烷基,杂烷基,烯基,炔基,芳基,芳烷基-,环烷基,杂芳基,杂芳基烷基-和杂环烷基;每个R10(当存在时)独立地选自卤代基,-CN,-NO2,-Si(R6)3,-P(O)(OR7)2,-P(O)(OR7)(R7),-N(R8)2,-NR8C(O)R7,-NR8S(O)2R7,-NR8C(O)N(R8)2,-NR8C(O)OR7,-C(O)R7,-C(O)2R7,-C(O)N(R8)2,-S(O)R7,-S(O)2R7,-S(O)2N(R8)2,-OR7,-SR7,烷基,卤代烷基,卤代烷氧基,杂烷基,烯基,炔基和环烷基,其中R10(当存在时)的每个所述烷基、卤代烷基、卤代烷氧基、杂烷基、烯基、炔基和环烷基是任选独立地未取代的,或进一步被一个或多个选自下列的独立选择的基团取代:低级烷基,低级烯基,低级炔基,低级杂烷基,卤代基,-CN,-NO2,-N(R8)2,-OR7和-C(O)N(R8)2。
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