[发明专利]环状化合物、其生产方法、放射线敏感性组合物和抗蚀图案的形成方法无效
申请号: | 201080055311.8 | 申请日: | 2010-09-27 |
公开(公告)号: | CN102648173A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 林宏美;越后雅敏;小黑大 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | C07C39/17 | 分类号: | C07C39/17;C07C37/20;C08G8/04;G03F7/004;G03F7/038 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开的是:在安全溶剂中具有高溶解度、高灵敏度并能够提供具有良好形状抗蚀图案的环状化合物;生产该环状化合物的方法;包含该环状化合物的放射线敏感性组合物;和使用该放射线敏感性组合物形成抗蚀图案的方法。具体公开的是:具有特定结构的环状化合物;包含该化合物的放射线敏感性组合物;和使用该组合物形成抗蚀图案的方法。 | ||
搜索关键词: | 环状 化合物 生产 方法 放射线 敏感性 组合 图案 形成 | ||
【主权项】:
1.一种由下式(1)表示的环状化合物:[化学式1]
(在所述式(1)中,L独立地为选自由单键、碳数为1-20的线性或支化亚烷基、碳数为3-20的亚环烷基、碳数为6-24的亚芳基、-O-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-、-N(R5)-C(=O)-、-N(R5)-C(=O)O-、-S-、-SO-、-SO2-及其任何组合组成的组中的二价基团;R1独立地为碳数为1-20的烷基、碳数为3-20的环烷基、碳数为6-20的芳基、碳数为1-20的烷氧基、氰基、硝基、羟基、杂环基、卤素、羧基、碳数为2-20的酰基、碳数为1-20的烷基甲硅烷基或氢原子,条件是至少一个R1是氢原子;R’独立地由下式(1-2)表示:[化学式2]
在所述式(1-2)中,R6为氢原子或选自由碳数为1-12的烷基、碳数为3-12的环烷基、碳数为6-12的芳基、碳数为1-12的烷氧基、氰基、硝基、杂环基、卤素、羧基、羟基和碳数为1-12的烷基甲硅烷基组成的组中的基团;R5为氢原子或碳数为1-10的烷基;m是1-4的整数;n是0-5的整数;p是0-5的整数;和q是0-5的整数)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱瓦斯化学株式会社,未经三菱瓦斯化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080055311.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。