[发明专利]杀虫用芳基吡咯啉化合物无效
申请号: | 201080050340.5 | 申请日: | 2010-11-03 |
公开(公告)号: | CN102725286A | 公开(公告)日: | 2012-10-10 |
发明(设计)人: | 村田哲也;安宅雅;米田靖;渡边秀一;下城英一;涉谷克彦;市原照之 | 申请(专利权)人: | 拜耳作物科学公司 |
主分类号: | C07D409/12 | 分类号: | C07D409/12;C07D409/14;A01N43/36;A01N43/40 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 张晶;王朋飞 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明涉及具有式(Ⅰ)结构的新型芳基吡咯啉及其作为杀虫剂的应用,以及制备芳基吡咯啉NCF3A3A4A1A2ONR1LY3Y2Y1R2R3(Ⅰ)的方法,其中L、A1-A4、Y1-Y3、R1-R3如本申请说明书所定义。 |
||
搜索关键词: | 杀虫 用芳基 吡咯 化合物 | ||
【主权项】:
1.式(Ⅰ)的芳基吡咯啉化合物或者其盐或其N-氧化物,
其中A1、A2、A3和A4独立地表示C-H、C-R4基团或氮;L表示单键、-CH2C(O)NH-、C1-C8亚烷基、C1-C8卤代亚烷基、C2-C8亚烯基、C2-C8卤代亚烯基、C2-C8亚炔基或C2-C8卤代亚炔基;R1表示氢、C1-C8烷基、C1-C8烷基羰基或C1-C8烷氧羰基;R2表示氢或C1-C8烷基;R3表示芳基、或被1-4个X取代的芳基、或杂环基、或被1-3个X取代的杂环基;Y1、Y2和Y3彼此独立地表示CR5R6、C=O、C=N-OR7、N-R7、S(O)n,其中n表示0、1或2(即S、SO、SO2基),S=N-R7或S(O)=N-R7;Y1、Y2和Y3不同时为CR5R6;R4独立地表示卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、C1-C8卤代烷基、C2-C8烯基、C2-C8卤代烯基、C2-C8炔基、C2-C8卤代炔基、C1-C8烷氧基、C1-C8卤代烷氧基、C1-C8烷氧羰基、芳基或任选被1-3个R8取代的芳基,或杂芳基或任选被1-3个R8取代的杂芳基,或其中两个R4相邻,这两个R4可以和与其连接的碳原子一起形成5元环,其中5元环由下述基团之一组成:-OCH=N-、-SCH=N-、-OCR8=N-或-SCR8=N-;X独立地表示卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、C1-C8卤代烷基、C1-C8烷氧基、C1-C8卤代烷氧基或C1-C8烷氧羰基;R5和R6彼此独立地表示氢、卤素、C1-C8烷基或C1-C8卤代烷基;R7表示氢、氰基、硝基、C1-C8烷基、C1-C8卤代烷基、C3-C6-环烷基-C1-C4烷基、C1-C8烷基羰基、C1-C8卤代烷基羰基、C1-C8烷氧羰基、C1-C8卤代烷氧羰基、C1-C8烷基磺酰基、C1-C8卤代烷基磺酰基、芳基-C1-C4烷基或其中芳基部分被1-3个R9取代的芳基-C1-C4烷基、或杂芳基-C1-C4烷基或其中杂芳基部分被1-3个R9取代的杂芳基-C1-C4烷基;R8表示卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、C1-C8卤代烷基、C1-C8烷氧基、C1-C8卤代烷氧基或C1-C8烷氧羰基;以及R9表示氢、卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、C1-C8卤代烷基、C1-C8烷氧基、C1-C8卤代烷氧基或C1-C8烷氧羰基;条件是排除以下化合物:式(Ⅰ)的化合物,其中R3为3,5-二氯苯基,A1为C-CH3,A2、A3和A4各自表示C-H,R1为H,L为单键,Y1和Y3各自表示CH2,Y2为SO2,且R2为H;式(Ⅰ)的化合物,其中R3为3,5-二氯苯基,A1为C-CH3,A2、A3和A4各自表示C-H,R1为H,L为单键,Y1和Y3各自表示CH2,Y2为S,且R2为CH3;式(Ⅰ)的化合物,其中R3为3,5-二氯苯基,A1为C-CH3,A2、A3和A4各自表示C-H,R1为H,L为单键,Y1和Y3各自表示CH2,Y2为SO,且R2为H;式(Ⅰ)的化合物,其中R3为3,5-二氯苯基,A1为C-CH3,A2、A3和A4各自表示C-H,R1为H,L为单键,Y1和Y3各自表示CH2,Y2为S,且R2为H。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于拜耳作物科学公司,未经拜耳作物科学公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080050340.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种快速有效的图像增强方法
- 下一篇:离心式离合器设备