[发明专利]用于原子层沉积的装置及方法

摘要

一种用于在片状衬底的表面上的原子层沉积的装置，其包括：注入头，所述注入头包括配有前驱供给口和前驱排放口的沉积空间；所述供给口和排放口被安排成提供从前驱供给口经由沉积空间到前驱排放口的前驱气流；沉积空间在使用时由注入头和衬底表面界定；包括轴承空气注入器的空气轴承，该轴承空气注入器安排成在注入头与衬底表面之间注入轴承空气，因此该轴承空气形成空气轴承；以及传送系统，该传送系统提供衬底和注入头沿着衬底的平面的相对运动，以便形成沿其传送衬底的传送平面。将支承部分安排成与注入头相对，该支承部分被构造成提供在传送平面中平衡注入头空气轴承的空气轴承压强布局，以便衬底被所述空气轴承压强布局无支承地保持在注入头与支承部分之间。

主权项

一种用于在片状衬底的表面上的原子层沉积的装置，其包括：‑注入头，所述注入头包括：○配有前驱供给口和前驱排放口的沉积空间；所述供给口和排放口被安排成提供从所述前驱供给口经由所述沉积空间到所述前驱排放口的前驱气流；所述沉积空间在使用时由所述注入头和所述衬底表面界定；和○包括轴承空气注入器的空气轴承，该轴承空气注入器安排成在所述注入头与所述衬底表面之间注入轴承空气，因此该轴承空气形成空气轴承；‑传送系统，该传送系统提供所述衬底和所述注入头沿着所述衬底的平面的相对运动，以便形成沿其传送所述衬底的传送平面；以及‑安排成与所述注入头相对的支承部分，该支承部分被构造成提供在所述传送平面中平衡所述注入头空气轴承的空气轴承压强布局，以便所述衬底被所述空气轴承压强布局无支承地保持在所述注入头与所述支承部分之间；其中，所述沉积空间限定相对于所述衬底表面的沉积空间高度D2；以及其中所述空气轴承相对于所述衬底限定小于所述沉积空间高度D2的间隙距离D1。