[发明专利]控制光生伏打薄膜成分的方法

摘要

本发明涉及一种在退火工艺期间降低光生伏打薄膜结构的元素损失的方法，包括：在衬底上沉积薄膜，其中薄膜包括单一化学元素或化合物；使用保护层涂覆薄膜以形成经涂覆的薄膜结构，其中保护层防止单一化学元素的一部分或化合物的一部分在退火工艺期间逸出；以及将经涂覆的薄膜结构退火以形成经涂覆的光生伏打薄膜结构，其中经涂覆的光生伏打薄膜保留有在退火期间由保护层防止逸出的单一化学元素的一部分或化合物的一部分。

主权项

一种在退火工艺期间降低光生伏打薄膜结构的元素损失的方法，所述方法包括：在衬底上沉积薄膜，其中所述薄膜包括单一化学元素或化合物；使用包括共价化合物或金属或非金属的保护层涂覆所述薄膜以形成经涂覆的薄膜结构，其中所述保护层防止所述单一化学元素的一部分或化合物的一部分在退火工艺期间逸出；以及将所述经涂覆的薄膜结构退火以形成经涂覆的光生伏打薄膜结构，其中所述经涂覆的光生伏打薄膜保留有在退火期间由所述保护层防止逸出的所述单一化学元素的一部分或化合物的一部分。