[发明专利]环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法

摘要

本发明提供一种式(1)所示的环状化合物。该化合物对安全溶剂的溶解性高、高灵敏度、且可赋予良好的抗蚀图案形状，因此是有用的辐射敏感组合物的成分。式(1)中，L：单键，C_1-20的直链/支链亚烷基，C_3-20的环亚烷基，C_6-24的亚芳基，-O-，-OCO-，-OCOO-，-NR⁵CO-、-NR⁵COO-<R⁵：H、C_1-10的烷基>，-S-，-SO-，-SO₂-及它们的任意组合；R¹：C_1-20的烷基、C_3-20的环烷基、C_6-20的芳基、C_1-20的烷氧基、-CN-、-NO₂、-OH、杂环基、卤素、-COOH、缩水甘油基、C_1-20的烷基甲硅烷基或H(其中，1个以上的R¹为缩水甘油基，且其他的1个以上的R¹为H)；m：1-4；R′：C_2-20的烷基或(取代)苯基。

主权项

1.一种下述式(1)所示的环状化合物，式(1)中，各L独立地为选自由单键，碳原子数1～20的直链状或支链状的亚烷基，碳原子数3～20的环亚烷基，碳原子数6～24的亚芳基，-O-，-OC(＝O)-，-OC(＝O)O-，-N(R⁵)-C(＝O)-、其中R⁵为氢或碳原子数1～10的烷基，-N(R⁵)-C(＝O)O-、其中R⁵与前述同义，-S-，-SO-，-SO₂-及它们的任意组合组成的组中的二价有机基团；各R¹独立地为碳原子数1～20的烷基、碳原子数3～20的环烷基、碳原子数6～20的芳基、碳原子数1～20的烷氧基、氰基、硝基、羟基、杂环基、卤素、羧基、缩水甘油基、碳原子数1～20的烷基甲硅烷基或氢原子；其中，至少1个R¹为缩水甘油基，且其他的至少1个R¹为氢原子；各R’独立地为碳原子数2～20的烷基或下述式所示的芳基；m为1～4的整数，式中，R⁴为碳原子数1～20的烷基、碳原子数3～20的环烷基、碳原子数6～20的芳基、碳原子数1～20的烷氧基、氰基、硝基、杂环基、卤素、羧基、羟基、缩水甘油基或碳原子数1～20的烷基甲硅烷基，p为0～5的整数。