[发明专利]利用受激氮-氧类进行的金属氧化物薄膜沉积的系统和方法有效
申请号: | 201080036764.6 | 申请日: | 2010-08-12 |
公开(公告)号: | CN102625861A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | E·谢罗;P·雷伊塞宁;S.H.金;王长工 | 申请(专利权)人: | ASM美国股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C16/455;C23C16/52;C01B13/11 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 郭辉 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 描述了其中在反应室中的衬底上沉积薄膜的系统和方法。在示例性方法中,所述方法可包括对衬底施加原子层沉积循环,其中,所述循环可包括使所述衬底与前体气体接触前体脉冲时间,然后除去所述前体气体,并使所述衬底与包含氧化剂气体和含氮类气体的氧化剂接触氧化脉冲时间,然后除去氧化剂。本发明的各方面利用分子和受激氮-氧自由基/离子形式,可能还与氧化剂如臭氧组合。本发明的实施方式也包含电子元件,以及包括使用按照本发明的方法制造的器件的系统。 | ||
搜索关键词: | 利用 受激氮 进行 金属 氧化物 薄膜 沉积 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种在位于反应室内的衬底上沉积薄膜的方法,该方法包括对衬底施加原子层沉积循环,该循环包括:使衬底与前体气体接触前体脉冲时间,随后去除该前体气体;以及使该衬底与包含氧化剂气体和含氮类气体的氧化剂接触氧化脉冲时间,随后去除该氧化剂。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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