[发明专利]浮雕印刷版的制版方法及浮雕印刷版制版用冲洗液无效
| 申请号: | 201080036568.9 | 申请日: | 2010-08-12 |
| 公开(公告)号: | CN102470663A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
| 发明(设计)人: | 田代宏;足立圭一 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | B41C1/05 | 分类号: | B41C1/05;B41N1/12;B41N3/06 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供能够容易地除去在雕刻时产生的版上的浮渣的浮雕印刷版的制版方法、及适宜用于所述浮雕印刷版的制版方法中的浮雕印刷版制版用冲洗液。一种浮雕印刷版的制版方法,其特征在于,其依次具有准备具有浮雕形成层的浮雕印刷版原版的工序、通过曝光对浮雕印刷版原版进行雕刻的工序、及用冲洗液除去通过雕刻而产生的雕刻浮渣的工序,该冲洗液是pH为9以上的水溶液,该浮雕形成层含有具有下述式(I)所示基团的聚合物。-M(OR1)(R2)n(I)(式中,R1表示氢原子或烃基,M表示Si、Ti或Al,当M为Si时n为2,当M为Ti时n为2,当M为Al时n为1,具有n个的R2分别独立地表示烃基或OR3,R3表示氢原子或烃基)。 | ||
| 搜索关键词: | 浮雕 印刷 制版 方法 冲洗 | ||
【主权项】:
一种浮雕印刷版的制版方法,其特征在于,依次具有以下工序:准备具有浮雕形成层的浮雕印刷版原版的工序、通过曝光对浮雕印刷版原版进行雕刻的工序、以及用冲洗液除去通过雕刻而产生的雕刻浮渣的工序,该冲洗液是pH为9以上的水溶液,该雕刻浮渣含有具有下述式(I)所示基团的聚合物。‑M(R1)(R2)n (I)式(I)中,R1表示OR3或卤素原子,M表示Si、Ti或Al,当M为Si时n为2,当M为Ti时n为2,当M为Al时n为1,具有n个的R2分别独立地表示烃基、OR3或卤素原子,R3表示氢原子或烃基。
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