[发明专利]空心单元阵列结构与生产空心单元阵列结构的方法和设备有效
| 申请号： | 201080030811.6 | 申请日： | 2010-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN102470618A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 金松俊宏;大垣杰;青木慎司;妹尾晋哉;升泽正弘;大岛久庆;井上裕贵依 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | B29D22/00 | 分类号： | B29D22/00;B29D11/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明披露一种生产空心单元阵列结构的方法，包括：第一步骤，该步骤使能够在预定条件下塑性变形的可变形材料在第一衬底上成层，该第一衬底在其表面中具有多个互相分离的凹陷，以使可变形材料在相应凹陷中形成互相隔离的空间；第二步骤，该步骤通过导致空间具有一定气体压力同时在第一衬底上延伸可变形材料从而使多个凹陷中的空间扩张，以使多个空心单元对应多个凹陷在预定方向上同时形成；以及第三步骤，该步骤通过选择性应用紫外线到多个空心单元的部分来选择性凝固所述部分。 | ||
| 搜索关键词： | 空心 单元 阵列 结构 生产 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种生产空心单元阵列结构的方法，包含：第一步骤，使得能够在预定条件下塑性变形的可变形材料在第一衬底上成层，所述第一衬底在其表面中具有多个互相分离的凹陷，以使得所述可变形材料在对应凹陷中形成互相隔离的空间；第二步骤，通过引起所述空间的气体压力使所述多个凹陷中的所述空间扩张同时延伸在所述第一衬底上的所述可变形材料，以使得多个空心单元对应所述多个凹陷在预定方向上同时形成；以及第三步骤，通过选择性应用紫外线到所述多个空心单元的多个部分，而选择性凝固所述多个空心单元的所述部分。
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