[发明专利]用于最小化雷击影响的光谱选择性涂层及相关方法有效
| 申请号： | 201080023881.9 | 申请日： | 2010-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN102449076A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | M·M·莱德 | 申请（专利权）人： | 波音公司 |
| 主分类号： | C09D5/00 | 分类号： | C09D5/00;B64D45/02 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用于减少由衬底和等离子之间相互作用引起的对衬底的结构破坏的方法，该方法的步骤包括：确定等离子的光谱辐射率处于峰值的波长，该波长是等离子温度的函数；制备能够给予衬底在围绕该波长的光谱波段上的阈值电磁反射率的涂层和将涂层施加到衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 最小化 雷击 影响 光谱 选择性 涂层 相关 方法 | ||
【主权项】：
一种用于减少由衬底和等离子之间相互作用引起的对衬底的结构破坏的方法，所述方法包含以下步骤：确定波长，所述等离子的光谱辐射率在该波长处于峰值，所述波长是所述等离子的温度的函数；制备能够给予所述衬底在围绕所述波长的光谱波段上的阈值电磁反射率的涂层；和将所述涂层施加到所述衬底。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于波音公司，未经波音公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080023881.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种改性沥青真空隔热合成塔
- 下一篇：利用实时EEG 读数测定控制光疗方案
