[发明专利]用于3维辐射成像应用的交织的多孔准直仪无效
申请号: | 201080022235.0 | 申请日: | 2010-03-31 |
公开(公告)号: | CN103403580A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 崔永刚;R·B·詹姆斯 | 申请(专利权)人: | 布罗克哈文科学协会有限责任公司 |
主分类号: | G01T1/29 | 分类号: | G01T1/29;G01N23/04;A61B6/02;G21K1/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 陈芳 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开一种用于三维辐射成像应用的交织的多孔准直仪。该准直仪包括准直仪主体,该准直仪主体包括以二维格栅的形式设置的多个孔。该准直仪主体被配置为吸收和准直所述准直仪的视场内的从辐射源发射的辐射束。准直仪主体具有最靠近辐射源设置的表平面。二维格栅被选择性地分成至少第一组和第二组的孔,其分别限定要被成像的对象的第一视域和第二视域。第一组孔通过交织或交替格栅的行来形成,第二组孔由与第一组的行相邻的孔的行形成。第一组中的每一个孔相对于所述准直仪主体的表平面以第一取向角布置,第二组中的孔相对于所述准直仪主体的表平面以第二取向角布置,从而使得第一组的孔与第二组的孔交织。 | ||
搜索关键词: | 用于 辐射 成像 应用 交织 多孔 准直仪 | ||
【主权项】:
一种准直仪,包括:准直仪主体,被配置为吸收和准直所述准直仪的视场内的从辐射源发射的辐射束,所述准直仪主体具有最靠近所述辐射源设置的表平面;以及多个孔,在整个所述准直仪主体上以二维格栅的形式设置,所述多个孔被分成多个组,所述多个组分别限定要被成像的对象的多个视域,其中,所述多个组的孔在整个准直仪主体上以二维格栅的形式交错或交织。
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