[发明专利]图像传感器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201080015737.0 申请日: 2010-03-10
公开(公告)号: CN102388456A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 岸隆史 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N5/335
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 图像传感器包括:光电转换像素,包括进行光电转换的光电转换元件、和在位于光电转换元件上方的层间绝缘膜中由第一材料形成的光导;以及遮光像素,包括进行光电转换的光电转换元件、在位于光电转换元件上方的层间绝缘膜中由与第一材料不同的第二材料形成的光导、以及在光导上方形成的遮光层。
搜索关键词: 图像传感器 及其 制造 方法
【主权项】:
一种图像传感器,包括:光电转换像素,包括第一光电转换元件、位于所述第一光电转换元件上方的第一配线层、在所述第一配线层之间形成的第一层间绝缘膜以及在所述第一层间绝缘膜中由第一材料形成的第一光导;以及遮光像素,包括第二光电转换元件、位于所述第二光电转换元件上方的第二配线层、在所述第二配线层之间形成的第二层间绝缘膜、在所述第二层间绝缘膜中由具有与所述第一材料不同的特性的第二材料形成的第二光导以及在所述第二光导上方形成的用于遮蔽所述第二光电转换元件和所述第二光导的遮光层。
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