[发明专利]光源装置及包括该光源装置的模拟太阳光照射装置无效
申请号: | 201080012035.7 | 申请日: | 2010-01-29 |
公开(公告)号: | CN102348930A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 藤原纪人 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | F21V8/00 | 分类号: | F21V8/00;F21S2/00;H01L31/04;F21Y103/00;G01N17/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张鑫 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明所涉及的光源装置(1)包括:光源部(10);配置于入射有来自光源部(10)的光的位置、且形成为其宽度从入射面向出射面缓缓变宽的锥形的导光体(20);以及配置于从导光体(20)出射的光进行入射的位置、且构成为使特定的波长带的光谱衰减的滤光器(30)。据此,提供可对放射角进行控制且实现小型化的光源装置、以及包括该光源装置的模拟太阳光照射装置。 | ||
搜索关键词: | 光源 装置 包括 模拟 太阳光 照射 | ||
【主权项】:
一种光源装置,包括:光源部,具有光源;导光体,配置于入射有来自所述光源部的光的位置;以及光谱调制用部件,配置于从所述导光体出射的光进行入射的位置,其特征在于,所述导光体具有:来自所述光源部的光进行入射的入射面、以及从该入射面入射的光在被引导至侧面是构成为使光进行反射的光反射面的导光区域之后出射的出射面,且形成为其宽度从该入射面向该出射面缓缓变宽的锥形,所述光谱调制用部件构成为从所入射的光中使得特定的波长带的光谱衰减的光出射。
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