[发明专利]用于使激光辐射均匀化的设备有效
| 申请号： | 201080005134.2 | 申请日： | 2010-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN102292663A | 公开（公告）日： | 2011-12-21 |
| 发明（设计）人： | A·米哈伊洛夫;Y·科罗图史金 | 申请（专利权）人： | LIMO专利管理有限及两合公司 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 赵科 |
| 地址： | 德国盖*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种用于使激光辐射(1)均匀化的设备，包括多个相互错开设置的反射镜元件(6)，要均匀化的激光辐射(1)能在反射镜元件(6)上被反射使得激光辐射被分成数量与反射镜元件(6)的数量相对应的子束(8)，子束通过反射而相互具有光程差；多个透镜元件(4)，为透镜元件中每一个分别分配反射镜元件(6)之一，使得子束(8)中每一个都能穿过透镜元件(4)之一；其中反射镜元件(6)中每一个与分配给这一反射镜元件的透镜元件(4)之间的距离等于各自透镜元件(4)的焦距(f4)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 激光 辐射 均匀 设备 | ||
【主权项】：
一种用于使激光辐射(1)均匀化的设备，包括：多个相互错开设置的反射镜元件(6)，要均匀化的所述激光辐射(1)能够在所述反射镜元件(6)上被反射使得所述激光辐射被分成数量与所述反射镜元件(6)的数量相对应的子束(8)，所述子束通过所述反射而相互具有光程差；多个透镜元件(4)，为所述多个透镜元件中每一个透镜元件分别分配所述反射镜元件(6)之一，使得所述子束(8)中每一个都能穿过所述透镜元件(4)之一；其特征在于，所述反射镜元件(6)中每一个反射镜元件与分配给这一个反射镜元件的透镜元件(4)之间的距离等于各自透镜元件(4)的焦距(f4)。
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