[发明专利]等离子CVD装置有效

专利信息
申请号: 201080004227.3 申请日: 2010-01-12
公开(公告)号: CN102272350A 公开(公告)日: 2011-12-07
发明(设计)人: 新井进;江藤谦次 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;H01L21/205;H01L21/31
代理公司: 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙) 11017 代理人: 韩登营
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种等离子CVD装置,其真空室采用分体结构,喷射板很容易装到真空室内部或从中取出。本发明一个实施方式的等离子CVD装置(3)具有由第一和第二真空室部件(11、12)的接合体构成的真空室(10)。经由设置在第二真空室部件(12)的非接合面一侧的侧面(122)上的取出部(5)可将喷射板(61)从内部空间中取出。因此,喷射板(61)无需采用分体结构,也能容易地进行将该喷射板(61)装入真空室(10)的内部空间或从中取出的作业。
搜索关键词: 等离子 cvd 装置
【主权项】:
一种等离子CVD装置,其特征在于,具有:第一真空室部件,其具有与第一方向交叉的第一侧面,该第一侧面上形成有第一开口;第二真空室部件,其具有与上述第一方向交叉的第二侧面,所述第二侧面上形成有第二开口,在上述第一方向上与上述第二侧面面对着的第三侧面,当上述第二侧面与上述第一侧面接合时,在上述第一真空室部件和上述第二真空室部件的内部形成包括上述第一、第二开口在内的能排气成真空状态的内部空间;喷射板,其设置在上述内部空间内并贯穿上述第一和第二开口;取出部,其设置在上述第三侧面上,用来沿上述第一方向从上述内部空间取出上述喷射板。
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