[实用新型]一种全方位旋转支撑平台有效
| 申请号: | 201020669865.4 | 申请日: | 2010-12-17 |
| 公开(公告)号: | CN201921780U | 公开(公告)日: | 2011-08-10 |
| 发明(设计)人: | 徐洁芳;潘勇 | 申请(专利权)人: | 上海无线电设备研究所 |
| 主分类号: | B05B13/02 | 分类号: | B05B13/02 |
| 代理公司: | 上海航天局专利中心 31107 | 代理人: | 张绪成 |
| 地址: | 200090 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 本实用新型涉及用于零件加工的工装领域。所要解决的技术问题是,针对此类零件的加工,提供一种全方位旋转支撑平台,可在进行表面处理时将零件一次定位完成表面处理。其特征在于:所述平台包括底座(1)和转盘(7);所述平台还包括设置在底座(1)和转盘(7)之间的旋转组件;所述旋转组件主要由与底座(1)固定的下轴承(3)和与转盘(7)之间固定的上轴承(5)以及设置在下轴承(3)和上轴承(5)之间的滚珠(6)组成。本实用新型公开的全方位旋转支撑平台,制造成本低,灵活多变,适合多种场合,能有效解决各类零件表面喷漆问题,是一种简易、实用的喷漆装置,通过合理改变转盘结构,可以对多种形状零件提供支撑。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 全方位 旋转 支撑 平台 | ||
【主权项】:
一种全方位旋转支撑平台,其特征在于:所述平台包括底座(1)和转盘(7);所述平台还包括设置在底座(1)和转盘(7)之间的旋转组件;所述旋转组件主要由与底座(1)固定的下轴承(3)和与转盘(7)之间固定的上轴承(5)以及设置在下轴承(3)和上轴承(5)之间的滚珠(6)组成;在下轴承(3)上开有平底圆腔,用于放置滚珠(6);下轴承(3)外圆轴(D1)为固定轴承,平底圆腔(D2)用于放置滚珠,凹槽(D3)限位;下轴承(3)的外圆与上轴承(5)的内圆为间隙配合;上轴承(5)为旋转轴承,与下轴承(3)装配时,其内圆孔(D)平底面与滚珠接触,依靠滚珠作支点进行旋转,上轴承(5)上设有2处限位螺钉孔(M),在限位孔(M)中拧螺钉至下轴承(3)凹槽(D3)处,限制上下轴承轴向移动。
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