[实用新型]一种可调多区气体分布装置有效
| 申请号： | 201020636344.9 | 申请日： | 2010-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN202003945U | 公开（公告）日： | 2011-10-05 |
| 发明（设计）人： | 倪图强;魏强;徐朝阳 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 张静洁;徐雯琼 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种可调多区气体分布装置，其设置在等离子体处理装置的反应腔顶部，包含：第一气体分布区连接第一气体供应管道；第二气体分布区连接第二气体供应管道；其中还包含一气体切换装置选择性地联通第一气体供应管道或第二气供应管道到可调多区气体分布装置的第三气体分布区。当气体切换装置的第一切换开关导通到第二切换开关导通时，第一反应气体在上电极周边的分布面积减小，对应的使第二反应气体在上电极中心向外的分布面积增大，反之亦然。本实用新型以阀门等切换开关代替现有其中一些带流量控制装置的进气通道，能够以较低的成本实现流量比不同的多路反应气体在上电极上多个区域的分布控制，从而在晶圆表面获得均匀的等离子体处理效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可调 气体 分布 装置 | ||
【主权项】：
一种可调多区气体分布装置，其设置在等离子体处理装置的反应腔顶部，其特征在于，所述可调多区气体分布装置包含：第一气体分布区（31）连接第一气体供应管道（11）；第二气体分布区（33）连接第二气体供应管道（12）；其中还包含一气体切换装置（20）选择性地联通第一气体供应管道或第二气供应管道到可调多区气体分布装置的第三气体分布区（32）。
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